實驗設計單位:台灣半導研究中心
🧪實驗材料
- 感光電路板
 - 顯影粉
 - 蝕刻粉
 - 蝕刻液體回收粉
 - 白紙與麥克筆,或是有圖案之透明膠片
 - 塑膠夾子或鑷子,或是筷子
 - 手部防酸鹼護具
 - 曝光機,或是日光燈或是 UV 燈(擇一)
 - 塑膠容器,或玻璃容器
 - 水 800cc / 600cc,各1
 - 膠帶
 - 剪刀
 - 光罩
 
🔬實驗步驟
- 前置準備,調配顯影溶液與蝕刻溶液
 - 將顯影粉倒入較多的水中(800cc);蝕刻粉倒入較少的水中(600cc)
 - 準備要進行曝光的光罩,用麥克筆將白紙繪製想要的圖案
 - 用剪刀剪下圖案,並使用膠帶將光罩貼合在感光電路板上
 - 放入曝光機,進行曝光 (使用白紙曝光 250 秒;日光燈照射所需 8 - 12 分鐘以上)
 - 曝光完後將電路板放入顯影液體,等待顯影完成
 - 將顯影完成的感光電路板,經過水清洗後,放入蝕刻液體
 - 等待電路板上裸露的銅金屬被蝕刻完
 - 拿出電路板進行清洗後,放入顯影液,去除光阻
 - 電路板製作完成
 
									
										
										
										
									











