各場次時間如下:
- 第1場次:11:00-11:20
- 第2場次:14:00-14:20
- 第3場次:15:00-15:20
*本活動除接受個人報名之外,亦開放團體報名(5人以上),如欲團報,請洽工作小組。
*本場域同時開放現場候補(名額依現場參觀人數而定)。
自1960年代末以來,國立交通大學(NCTU)一直是半導體技術研究和教育的領導者,為台灣半導體產業做出了傑出貢獻,不論是前瞻技術發展、頂尖人才培育,眾所矚目。交大智慧半導體奈米系統技術研究中心成立於107年,延續了這一傳統,並為交大半導體、電子、材料、化學和物理學的研究者提供了一個平台,共同解決半導體技術的一些瓶頸問題。包括開發3D堆疊元件和IC電路的低溫工藝技術、突破60mV /dec物理極限以降低電壓和功率的負電容電晶體技術、二維過渡金屬硫屬化合物半導體材料合成技術,低電阻內連線與低接觸電阻技術,以及用於高速和高頻應用的III-V半導體FinFET等5個分項計畫進行研究開發,以滿足產業應用需求。
台灣半導體研究中心(TSRI)是本中心計畫之重要合作夥伴,本中心之前瞻半導體技術各子題的目標和做法,需借助其先進製程與設備共同進行研發。
因此,針對科技部主辦之Kiss Science活動,與台灣半導體研究中心合作,規劃如下:
場地部分擬於台灣半導體研究中心2F大廳舉行,參觀方式採取定點參觀介紹及定時導覽,並配合展示影片播放,民眾可自由參觀,也能透過專業導覽有更深一步的了解。
進行方式有:
•定時導覽:將由研究人員於預告時間進行10~20分鐘的介紹,內容包含先進半導體製程、新穎之三維積層型IC製程技術、前瞻負電容鰭式電晶體技術、二維半導體元件製程技術等,透過面對面的解說、互動與提問,以及專業IC製程無塵室導覽等,可增加民眾對先進半導體技術的了解。
•展覽:提供相關技術海報、晶片樣品、先進製程設備展示等,增加對於前瞻半導體技術的認識。