李永春 Yung-Chun Lee

推動光機電跨領域研究 創新解決產業重大問題

本人過去 20 多年的研究領域包括：超音波工程與非破壞性檢測、壓電材料與聲波感測器、準分子雷射微細加工、奈米壓印與滾印技術、無光罩式曝光機製程設備與技術開發…等等，研究方向與研究重點著重於結合基礎理論、程式計算、實驗方法與技術，以解決工程或產業中的重大問題，並提出具創新性與突破性的解決方案。

在超音波非破壞性檢測方面，針對大型與圓筒的靶材，自主開發大型的自動掃描與檢測系統；同時引入 AI 人工智慧技術於超音波觸控的應用。在奈米壓印技術部分，針對 LED 產業中的圖案化藍寶石基板製程，發展出可撓性奈米光導與軟性光罩微影技術，可以取代現有的黃光微影機台，在較低的製程成本下達到次微米線寬與大面積的微結構製程。

在滾印技術上，首先發展出大型與無縫式滾筒模仁的製造技術，實現在曲面上製作任意複雜圖形與 3D 形貌的微結構。最後，根據雷射加工的非球面微透鏡陣列，實現了高精度的無光罩曝光技術，可直接應用於高階的電子電路、平面顯示器與半導體封裝產業。

近年專注於發展無光罩曝光機製程設備與技術，追求完全的技術自主性與全機台軟硬體的整合開發能力，以期有效因應國內未來的技術升級與產業需求。